Rack per la pulizia dei wafer di silicio singoli in PTFE, per la ricerca sulle celle solari

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Caratteristiche del prodotto:

1. PTFE bianco puro
2. Intervallo di temperatura: da -200 a 250 gradi Celsius;
4. Basso valore di fondo;
5. Buona resistenza chimica, può sopportare la maggior parte dei solventi chimici (acidi forti, alcali forti, acqua regia e vari solventi organici);
In quanto nuovo materiale portante di alta qualità e ad alte prestazioni, il supporto per wafer di silicio in teflon è ampiamente utilizzato in vari campi, come la produzione di semiconduttori, l'industria elettronica, il trattamento medico, ecc. La sua struttura speciale gli conferisce buone proprietà meccaniche, resistenza alle alte temperature e stabilità chimica, consentendogli di supportare e proteggere in modo affidabile diversi componenti elettronici complessi.

Rispetto ai supporti tradizionali, i supporti per wafer di silicio in PTFE hanno una maggiore forza e una migliore resistenza alla corrosione, possono mantenere la stabilità in ambienti estremi e non vengono intaccati da sostanze come acqua, olio, acidi e alcali. Allo stesso tempo, possono lavorare a lungo ad alta temperatura senza subire deformazioni o danni.

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Categoria
Offerta

Stato
Cina

Regione
Jiangsu

Località
Nanjing